1、ICP（感应耦合）等离子刻蚀机的基本原理及结构示意图 随着半导体工艺技术的发展，湿法刻蚀由于其固有的局限性，已不能满足超大规模集成电路微米、甚至纳米级细线条的工艺加工要求，干法刻蚀逐渐发展起来。在干法刻蚀中，感应耦合等离子体（InductivelyCoupledPlasma简称ICP）刻蚀法由于其产生的离子密度高、蚀刻均匀性好、蚀刻侧壁垂直度高以及光洁...
2、电感耦合式（ICP）等离子清洗机 电感耦合式等离子体（ICP）是等离子产生的一种新型方式，与传统的电容耦合等离子不同，其等离子产生和维持除了电场作用，还有感应磁场和二次电场作用。电感耦合式等离子是等离子研究后期出现的一种新型的方式，其机理是感应线圈中的交流电场，在反应室内耦合感应产生二次电场，在低气压状态下激发产生等离子体。电感耦合...
3、感应耦合等离子体刻蚀机芯片（福建感应耦合等离子刻蚀材料刻蚀） 铁电体也不是绝对绝缘体，感应耦合等离子体刻蚀机芯片它们在自发板形成或施加电场产生的电场的作用下在其体内感应电荷。在电子的情况下，它们由于高频电场的作用而振动，并与晶格离子碰撞产生位移，从而影响铁电物质的内部结构。高频放电等离子体对高强制电场强度的铁电体的磁滞特性有明显的校正作用，可以在不改变自发极化...
