1、基团亲水性排序（基团亲水性强弱导致发白）酰亚胺基团亲水性 等离子清洗技术主要是依靠等离子体中活性粒子的“活化作用”达到去除物体表面污渍的目的。就反应机理来看,等离子体清洗通常包括以下过程:无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面;被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相;反应残余物脱离表面。反应类型分...
2、附着力增进剂H-12（三聚氰胺基材附着力增强剂） 直接等离子体的侵蚀较少，三聚氰胺基材附着力增强剂但工件暴露在辐射区。下游等离子体是一种较弱的工艺，适用于去除 10-50 埃的薄层。射线区或等离子体会损坏工件。目前，没有证据表明这种担忧。这似乎只有在重复出现的高射线区域中的处理时间延长到 60-120 时才会发生。在正常情况下，这些条件仅适用于大片...
3、胺基亲水性（酰胺基亲水性原理）季胺基亲水性 在化学相容性或粘接中存在的强界面力可以增强两个表面之间的附着力。聚合物通常具有较低或中等的表面能，胺基亲水性使其难以粘接或覆盖其表面。经氧等离子体处理后，pp的表面张力从29dyn/cm增加到72dyn/cm，几乎达到零接触角总吸水量所需的值。其他材料的表面将通过活化过程进行硝化、氨化和氟化。等离子...
