浓缩的HMDSO被用作前驱体。前驱体在管状等离子体中发生反应，薄膜plasma表面活化在衬底上沉积SiOx薄膜。以圆盖玻璃为基材，硝酸银溶液或银纳米粒子悬浮液为喷涂添加剂。为保证涂层的抗菌效果，用异丙醇与水的体积比为1:1的混合物制备了硝酸银。溶液通过阀门、蠕动泵和加压气体(通常是氮气)直接喷射到等离子体中。样品架可在x、Y方向移动。
主要工艺问题:A、纸粉纸毛对环境和设备的决定;打磨决定了工作效率，薄膜plasma表面清洗工件会脱胶;糊盒的成本很高。当使用真正的笔刷时，薄膜表面的达因值可能小于40达因或更低。(重)点是，除非打印机告诉胶片供应商他需要双面电晕处理过的胶片，否则另一种情况是，打印机得到的是单面处理过的胶片，在胶片之后可以涂上。通常的结果显示，表面的达因值较低，等离子喷涂膜的加工速度不同。
上述研究三热障涂层的高温氧化行为表明,热障涂层氧化可分为六个阶段:氧气吸附,氧扩散在陶瓷层,选择性氧化生产氧化铝薄膜,薄膜生长,厚膜生长和厚膜破坏铝的分布直接影响保护膜的生长和生长，薄膜plasma表面清洗进而影响热障涂层的抗氧化性。。等离子体工艺适用于各种包装材料的预处理，甚至一些复合包装材料中的薄膜。
1. 工业上有哪些类型的等离子表面处理工艺?低温等离子体设备是目前常用的一种设计方案，薄膜pla...
