随着微电子行业的快速发展，蚀刻引线框架等离子清洗机也越来越多地应用于半导体行业。为了应用等离子清洗机的清洗工艺，半导体制造中必须涉及有机和无机物质。此外，半导体晶片受到各种杂质的影响，因为该过程总是由人在无尘室中进行。会被污染。根据污染物的来源和性质，大致可分为四类：颗粒物、有机物、金属离子和氧化物。 1. 颗粒 颗粒主要是一些聚合物、光刻胶和蚀刻杂质。这些污染物通常主要依靠范德华引力吸附到晶片表面。
用于汽车行业。医疗器械在使用前的加工过程非常精细。使用氟利昂清洗不仅浪费资源，山东新恒汇蚀刻引线框架而且非常昂贵。采用等离子表面处理技术，避免了使用化学品的弊端，适用于现代。医疗技术。技术要求。光学器件和一些光学产品对清洗的技术要求非常高，等离子表面处理技术可以在该领域得到更广泛的应用。等离子表面处理技术可以应用于广泛的行业。物体处理不仅仅是清洗，还包括蚀刻、灰化、表面活化和涂层。因此，判断等离子表面处理技术具有广泛的发展潜力。
这里特别强调的一个方面是空气类型为气体混合物充气的目的主要是为了增强活动和侵入。在真空环境中填充混合气体的目的是为了提高蚀刻工艺的效率，蚀刻引线框架项目去除污染物，去除有机化合物，增加侵入性。显然，混合气体的选择标准更广，等离子清洗机的处理技术也更常用！ 3.环境温度这是很重要的一点。空气等离子清洗机处理原料几秒钟，但环境温度为60°C。
