如果您对等离子表面清洗设备有更多的问题，硅胶表面防静电处理欢迎向我们提问（广东金莱科技有限公司）
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随着MEMS的发展，硅胶表面防静电处理机构的规模越来越小，固液界面中的摩擦力越来越大。微通道流动等摩擦阻力成为相关器件发展的重要制约因素。因此，最小化表面摩擦阻力是提高速度、节约能源的主要途径。近年来，等离子体表面处理器对超疏水涂层的减阻研究越来越受到研究者的重视。例如，研究发现，采用超疏水硅表面，减阻可达30%-40%。
硅胶表面防静电处理
随着气体变薄，分子间的距离和分子或离子的自由运动距离会增大。它们在正负极场的作用下碰撞形成等离子体。这些离子具有足够的活性和能量，可以打破几乎所有的化学键，导致暴露表面上的任何化学反应。各种气体的等离子体具有不同的化学性质。例如，氧等离子体具有很高的氧化性能，可以将光刻胶氧化成气体，从而达到清洗的目的。腐蚀气体等离子体具有良好的各向异性，能够满足腐蚀的需要。等离子体处理过程中产生辉光，故称辉光放电处理。
