在此基础上，西安氧等离子体清洗机高活性氧离子还可与断键后的分子链发生反应，形成活性基团亲水性表面，实现表面活化性目的，破碎的有机污垢与高活性氧离子反应，一氧化碳和H2O与其他分子结构分离形成表面，实现表面清洁。O2主要用于去除高分子表面活性剂和有机污染物，但不适用于易氧化的金属表面。在真空等离子体状态下，氧等离子体呈浅蓝色，有些放电类似白色。辐射强，肉眼观察放电时真空室内不会有放电。。
引入官能团：高分子材料经N2、NH3、O2、SO2等等离子体处理后，西安氧等离子体清洗机可改变外观的化学组成，引入相应的新官能团:-NH2、-OH、-COOH、-SO3H等，这些官能团可使聚乙烯、聚丙烯、聚苯乙烯、聚四氟乙烯等完全惰性的基材成为官能团数据，可在外观极性、润湿性、附着力上行进。性和反应性大大提高了它的应用价值。与氧等离子体相反，含氟气体低温等离子体处理可以将氟原子引入衬底表面，使衬底具有疏水性。
6去除光刻胶在晶圆制作过程中，西安氧等离子体清洗机氧等离子体被用来去除晶圆表面的蚀刻电阻。干法工艺唯一的缺点是等离子体区的活性粒子可能会对一些电敏设备造成损坏。为了解决这个问题，开发了几种工艺。一种是用法拉第器件隔离轰击晶圆表面的电子和离子；另一种方法是将清洗蚀刻对象放置在有源等离子体区域之外。（并行等离子清洗）蚀刻速率取决于电压、气压和胶水的量。典型的刻蚀速率为nm/min，通常需要10min。
虽然没有取得显著效果，氧等离子体清洗机器但凌在病毒的研究上走在了纪的前面。2003年以后，我国低温血浆医学的发展迎来了快速发展的新时期。2003年以后，中国科学院物理研究所、北京大学、清华大学、西安交通大学等国内主要等离子体研究机构逐步开始低温等离子体医学的研究，在国际上构建了一定的影响力，推动了等离子体医学的发展。
