等离子清洗机等离子体蚀刻设备是确保高品质半导体产品量产的基石。21世纪之初主流的等离子体蚀刻机台清一色洋枪洋炮，层间附着力-拉开发而且美国政府从1995年开始实行半导体设备出口管制，也就是说先进的蚀刻机台在大陆地区是禁止销售的。国内等离子清洗机蚀刻设备制造业起步于2003年，北有北方微电子公司(2003年成立)致力于硅蚀刻机台开发，南有中微半导体公司(2004年成立)起始于介电材料蚀刻机台打造。
通过前沿陡峭、脉宽窄(纳秒级)的高压脉冲电晕放电，层间附着力-拉开发在常温常压下取得非平衡等离子体，发生许多高能电子和·O、·OH等活性粒子，这些高能活性粒子具有极强的离子能量，可将含硫化合物和其他烃类、醇类氧化成CO2和H2O，对恶臭中的有机物分子进行中和分化，使污染物终究转化为无害物质。高能离子净化系统在欧洲首要使用于医院、办公楼、大众大厅等，近些年逐渐开发使用于污水处理，荷兰、瑞典等国的使用实例许多。
随着低温等离子体技术的日益成熟,以及清洗设备尤其是常压条件下在线连续等离子体装置的开发,清洗成本不断降(低),清洗效率可进一步提高;低温等离子体清洗技术本身具有便于处理各种材料、绿色环保等优点。因此,在精细化生产意识逐渐提高的同时,先进的清洗技术在复合材料领域中的应用必然会更加普及。。
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层间附着力-拉开发
