1、金属表面羟基活化（金属表面活化剂是香蕉水吗） 这些杂质的主要来源是:各种容器、管道、化学试剂，金属表面羟基活化以及半导体晶圆加工，在形成金属互连的同时，也产生各种金属污染。这种杂质的去除通常是通过化学方法进行的，通过各种试剂和化学品制备的清洗液与金属离子反应，金属离子形成络合物，脱离晶圆表面。等离子体器件oxideA半导体晶圆片表面暴露于氧和水...
