在清洗过程中，13x分子筛亲水性高能电子与反应性气体分子碰撞使其解离或电离，产生的各种粒子用来轰击清洗表面，帮助根除各种污染物；还可以改善材料本身的表面功能，如表面的润湿作用和薄膜的附着性能。这些功能在许多来料加工中是非常重要的。
等离子体化学的一个有趣的发展是从原始的简单分子合成复杂的分子结构。典型的反应包括异构化、原子或小基团的去除（去除）、二聚/聚合和原始材料的破坏。例如，分子筛亲水性甲烷、水、氮气和氧气等气体与辉光放电混合以获得生命。原产材料 & MDASH; & MDASH; 氨基酸。 PLASMA垫圈具有顺反异构化、开环反应或开环反应。除单分子反应外，还可发生双分子反应。
它不分待遇对象，高硅分子筛亲水性和疏水性可以加工不同的基板，无论是金属、半导体、氧化物还是高分子材料都可以很好的用等离子体处理，所以特别适用于不耐热、不耐溶剂的基板材料。等离子清洗机是一种全新的高科技产品，它也被称为等离子表面处理设备，其主要特点是可以达到常规清洗无法达到的效果，同时提高产品质量，有效解决环保问题。LED行业等离子清洗机的清洗主要在芯片封装环节，可以彻底解决布线前的清洁度问题。
结果表明，分子筛亲水性N2、Ar、O2、CH4-O2和Ar-CH4-O2等离子体均能提高硅橡胶的亲水性，其中CH4-O2和Ar-CH4-O2等离子体效果较好，且不随时间降解。在适宜的工艺条件下采用低温等离子体对PE和PP进行处理，PVF2、LDPE等材料，材料表面形貌发生了显著变化，引入了多种含氧基团，使表面由非极性、不易粘接转变为一定极性、易粘接、亲水性，有利于粘接、涂布和印刷。
分子筛亲水性
实现更高的去除率、更高的能源效率和更大的处理能力将有利于未来的工业应用。。超光滑硅片等离子处理器表面处理研究：等离子处理器可以通过溅射去除处理过的转变层，降低表面粗糙度，提高硅片的表面清洁度和表面能。优化的参数证实，与未经等离子处理的晶片相比，经等离子处理的晶片在涂层后平均损失 34.2 ppm，表现出良好的一致性。
在等离子体处理的整个过程中，影响等离子体处理效果的因素包括工艺温度、射频功率、气体分布、真空度、金属电极设置、静电保护等。。等离子体发生器提高汽车密封条的粘接强度:等离子体发生器技术可以有效提高硅胶密封条的表面能，提高亲水性和粘接能。等离子体应用技术在汽车工业中发挥着极其重要的作用。汽车制造过程密切协调，以确保新产品的最终高质量。
使用 SiH4 + N2O [或 Si (OC2H4) + O2] 创建 SiOxHy。气压为1-5 Torr（1Torr≈133Pa），电源为13.5MHz。 SiH4 + SiH3 + N2 用于氮化硅沉积。温度为300℃，沉积速率约为180埃/分钟。无定形碳化硅膜由硅烷和含碳共反应物获得，产生 SixC1 + x: H。其中 x 是 Si / Si + C 比率。硬度超过2500kg/mm2。
所以如果温度太高，停留时间过长，短短几秒内温度就会急剧上升。此外，由于高温，易碎物品通常在真空中机洗。吸尘器没那么复杂。根据电源的频率，以40KHz和13.56MHz为例。正常情况下，物料在一个腔体中运行，频率为40KHz，典型温度在65°以下，机器配备强大的冷却风扇。如果处理时间不长，材料的表面温度会与室温相匹配。 13.56MHz的频率较低，通常小于30°。
高硅分子筛亲水性和疏水性
. 13.56MHz产生的既有物理反应，高硅分子筛亲水性和疏水性又有化学反应，20MHz也有物理反应，但最重要的反应是化学反应。需要以 13.56MHz 或 20MHz 的等离子清洗来激活和修改材料。型腔材料的选择 常见的型腔材料有石英型腔、不锈钢型腔和铝合金型腔，各有其优点。石英腔体较冷且抗反应。铝合金型腔的优点： 1.铝合金密度低，强度高，性能优于优质钢，具有更好的加工性能。 2、铝具有优良的导电性、导热性和耐腐蚀性。
