部分电离汽体中的电子器件在外静电场作用下与中性分子撞击，静电塑粉附着力未来自静电场的动能将传达给汽体。电子器件-中性分子之间的弹性碰撞增加了分子的动能，表现为溫度上升。而不是弹性碰撞，刺激(分子或原子中的电子器件从低能跳到高能)、离解(分子分解成原子)或电离(分子或原子的外部电子器件从束缚变成自由电子)。 热气通过传导、对流、辐射等方式向周围环境传达动能，在一定体积内，输入能与失能相同。
2.利用等离子体聚合介质膜清洗沉积薄膜可以保护电子元件，静电塑粉附着力用plasma膜清洗沉积薄膜，可以保护电子电路和设备不受静电荷积累的影响，还可以用等离子体沉积膜来制造电容元件。3.等离子体改变基体表面的材料结构和性能。在处理过程中，工件温度相对较低，不会使工件变形，保护精密零件的质量，延长使用寿命。
介质阻挡放电可以在常压或更高的电压下工作，静电塑粉附着力但使用的电压频率相当宽，从几十赫兹到几兆赫兹。介质阻挡放电在臭氧产生的领域中有较广泛的应用。 三、直流电晕放电(高频高压电源) 直流电晕放电是在直流高电压作用下，利用电极间电场分布的不均匀性而产生的气体放电形式，该技术广泛的用于静电除尘等方面。
波的形式如此之多，静电塑粉喷涂后印刷附着力这是由于，等离子体中的带电粒子可以和波的电磁场发生作用而影响波的传达。 如果有外加磁场，则动摇、磁场的扰动和粒子的运动互相影响，就使得波的形式更加冗杂。例如，正负电荷的分离，会发生静电场，其库仑力是康复力，由此发生了朗缪尔波。
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PLASMA清洗机的功能主要是：等离子活化:大幅提高表面的润湿性能，形成活性的表面等离子清洗:去除灰尘和油污，清洗和去静电等离子涂层:通过表面涂层处理提供功能性的表面1）对材料表面的刻蚀作用--物理作用等离子体中的大量离子、激发态分子、自由基等多种活性粒子，作用到固体样品表面，不但清除了表面原有的污染物和杂质，而且会产生刻蚀作用，将样品表面变粗糙，形成许多微细坑洼，增大了样品的比表面。
在等离子体中，通常直接用粒子的平均能量来表示温度，当电子(荷电为1.6×10-19库仑)在静电场中通过电位差为1伏特时，电子从静电场中得到的能量。。
在等离子体化学反应过程中，等离子体转移化学能过程中的能量转移大致如下：（1）电场+电子→高能电子（2）高能电子+分子（或原子）→（受激原子、受激基团、游离基团）活性基团（3）活性基团+分子（原子）→产物+热（4）活性基团+活性基团→产物+热量从上述过程可以看出，电子首先从电场中获得能量，并通过激发或电离将能量传递给分子或原子。得到能量的分子或原子被激发，一些分子同时被电离，从而成为活性基团。
1.控制单元国内的真空等离子表面处理器，包括国外进口的，控制单元主要分为半自动控制、全自动控制、PC电脑控制、液晶触摸屏控制四种方式。而控制单元又分为两个大的部分：1）电源部分：主要电源频率有三种，分别是40KHz、13.56MHz、2.45GHz，其中13.56MHz是需要电源匹配器的。2）系统控制单元：分三种，按钮控制（半自动、全自动）、电脑控制、PLC控制(液晶触摸屏控制)。
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光学镜头、光学镜头等离子体设备 红外过滤器:红外过滤器在涂装前一般用超声波清洗机和离心清洗机清洗，静电塑粉附着力但要得到超清洁的基体表面，需要进一步采用等离子体表面处理，不仅可以去除基体表面看不见的有（机）残留物，还可以利用等离子体表面处理技术改善基体表面的(活）化和腐蚀等作用 手机摄像模组 手机摄影模块等离子体设备COB/COF/COG技术:随着智能手机的快速发展，人们对手机摄影的质量要求越来越高，COB/COG/COF技术制作的手机摄影模块已经广泛应用于千万像素的手机。
作为1种干式表面处理技术，静电塑粉喷涂后印刷附着力低温等离子体不需要处理废化学品、少量消耗品的绿色工艺技术。已广泛用于改进粘接、灌封或涂覆工件。在所有这些应用范围中，等离子表面处理机具有提高性能、减少易变性、提高工件可靠性等优点，已逐渐应用范围于各行业。。
