平板等离子清洗设备（平板等离子体表面活化）

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它具有清洁去污、强粘度、活化、蚀刻等特点。对于特殊不易粘接的材料，平板等离子清洗设备或对粘接要求较高的产品可有效提高加工效果。。1. 根据等离子体火焰温度:(1)高温等离子体:温度相当于108~109K的完全电离等离子体，如太阳、受控热核聚变等离子体。(2)低温等离子体:等离子体发生器热等离子体:高密度高压(1个大气压以上)，温度103~105K，如电弧、高频和燃烧等离子体。

平板等离子体表面活化

具有效率高、能耗低、环保等优点。等离子体技术被广泛应用，从制造微电子工业中的集成电路到处理聚合物薄膜和销毁有毒废物。(1)镀铝基膜预处理的意图:增加镀铝层的附着力，增加镀铝层的阻隔作用(如堵气、堵光)，提高镀铝层的均匀性。在等离子体预处理过程中，对基板表面进行清洗(如用水)和活化，即对基板表面进行化学改性，使铝原子的附着更加牢固。

等离子体与固体、液体或气体一样，是一种物质状态，也被称为物质的第四种状态。给气体施加足够的能量使其游离成等离子体状态。等离子体的“活性”成分包括离子、电子、活性基团、激发态核素(亚稳态)、光子等。等离子体清洗剂(详情请点击)是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，从而达到清洗、活化、蚀刻、涂膜等目的。

为了验证等离子体清洗机的效果，可以通过SITA CI的表面清洁度系统测量RFU值，用相对荧光单元(Relative Fluorescence Uni, RFU)来代表清洁度水平。RFU是相对荧光强度值，RFU值越大，零件表面残留污染物含量越高。因为等离子体处理显示出化学变化和物理变化。物理变化，是材料表面改性后粗化，蚀刻后表面凸起增大，表面积增大。

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平板等离子清洗设备

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