产生挥发性物质并用真空泵将其吸走。挥发物用于清洁目的。然而，蜡附着力促进剂“表面清洗”是等离子清洗机技术的中心，这也是很多企业选择等离子清洗机的重点。 “表面清洗”与等离子设备和等离子表面处理设备的名称密切相关。简单来说，表面清洁就是在被加工材料表面形成一层新的氧化膜，同时形成无数肉眼看不见的小孔。这样，被加工材料的表面积显着增加，间接增加了材料表面的粘合性、相容性、润湿性、分散性等。
plasma等离子体与催化剂共同作用下CO2氧化CH制C2烃反应研究结果表明：La203/Y-Al203可显著提高C2烃产物选择性，蜡附着力促进剂在相同等离子体条件下，其C2烃产物选择性比Y-Al203高出40个百分点，因此C2烃产物收率高；负载型金属催化剂Pd/Y-Al203虽然对C2烃产物收率影响不大，但可明显改变C2烃产物分布，微负载量的Pd可明显提高C2H2在C2烃产物中摩尔分数。
等离子清洗机又称等离子蚀刻机、等离子打胶机、等离子活化剂、等离子清洗机、等离子表面处理器、等离子清洗系统等。等离子处理器广泛应用于等离子清洗、等离子蚀刻、等离子晶片脱胶、等离子镀膜、等离子灰化、等离子活化和等离子表面处理等领域。在IC封装过程中，蜡附着力促进剂采用等离子清洗机，可以有效去除材料表面的有机残留物、颗粒污染、氧化物薄层，提高工件表面活性，避免焊缝层和虚拟焊接。。
但过孔因为阻抗不连续而造成的反射其实是微乎其微的，蜡附着力促进剂其反射系数仅为：（44-50）/（44+50）=0.06过孔产生的问题更多的集中于寄生电容和电感的影响。
氧化聚乙烯蜡附着力问题
在这种情况下，更换相序保护继电器。 3、真空等离子清洗机供气压力过低。检查气体是否打开或关闭。 4、真空等离子清洗机二次供气压力过低。检查气体是否打开或关闭。第三点和第四点是气路控制系统的警报。如果您收到此警报，请确保打开和关闭气体。如果气体没有问题，检查设备的减压阀、气路电磁阀、流量计是否正常。检查电路是否断开和短路。 5. 如果真空等离子清洗机的排气压力过低，请检查气体是否打开并排出。
本实用新型可借助等离子表面清洗机技术进行表面（活性）改性喷涂处理，提高产品质量，解决长期困扰的问题。该自动等离子体设备不能区分待处理靶材的材料类型，对半导体材料和大多数高聚物具有有效的处理（效应）效果，并能保持完整性散装、局部和复杂结构的清洗。清洗过程可实现自动化、智能化，并可配备高精度控制系统，精确控制时间。
利用等离子处理设备可以降低其成本，另外对产品本身也没有任何的影响，不会影响其性能。用于制造隐形眼镜的玻璃模具带有成型时产生的聚合物污染层（例如CR-39 或PC）或脱模剂。通常用湿法清洗来洗掉这些残余物，但随之而来的不完全的喷淋、水痕、建造清洗槽等会影响表面的完美性，而用等离子体可以很好地清洁这些镜片，并提升产品的性能，以达到最好的效果。。
如果叠层产品不能用砂轮打磨，采用切齿线的方法，或者在叠层时让开（尺寸较大的产品实用，小包装产品不能用这种方法），再配合优质胶水，效果更好，但不是最好的方法。
氧化聚乙烯蜡附着力问题
大陆的。等离子设备是从海外引进的，什么蜡附着力最好据说最初是日本人发明的，但最初是为了解决半导体的问题而开发的，现在已经在各个领域得到应用。 除了等离子机，解决材料粘合强度的方法还有很多，比如化学药水、喷砂、直接燃烧等。这也是一个很好的方法，但是对每种材料的要求是不同的。等离子机已用于制造各种电子元件。如果手机摄像头和很多精密配件耦合不紧密，最好的解决方案就是等离子机。
