解吸是等离子体清洗机中等离子体与固体材料表面的界面，附着力好的热固性树脂电子、离子、光子和中性粒子将能量传递给吸附在固体材料表面的原子或分子，使这些原子或分子克服吸附力离开固体表面，通常包括离子解吸、电子解吸、中性粒子解吸和光解吸。
（1）化学反应化学反应中常用的气体有氢气(H2)、氧气(02)、甲烷(CF4)等，附着力好的热固性树脂这些气体在等离子体中反应成高活性自由基，方程是这些自由基会进一步与材料表面发生反应。其反应机理主要是利用等离子体中的自由基与材料表面反应。压力较高时，有利于自由基的产生。因此，如果化学反应是主要反应，就需要控制较高的压力来反应。
40kHz的自偏置约为0V, 13.56mhz的自偏置约为250V, 20MHz的自偏置更低。这三种激励频率具有不同的机制。40kHz的反应是物理反应，附着力好的热固性树脂13.56mhz的反应是物理反应和化学反应。20MHz有物理反应，但更重要的反应是化学反应。对于需要活化修饰的材料，40kHz的自偏置约为0V, 13.56mhz的自偏置约为250V, 20MHz的自偏置更低。三种激励频率具有不同的机制。
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