其中高温等离子体的电离度接近1，涂膜附着力检测仪各种粒子温度几乎相同系处于热力学平衡状态，它主要应用在受控热核反应研究方面。而低温等离子体则学非平衡状态，各种粒子温度并不相同。其中电子温度( Te)≥离子温度(Ti)，可达104K以上，而其离子和中性粒子的温度却可低到300～500K。一般气体放电子体属于低温等离子体。截至2013年，对低温等离子体的作用机理研究认为是粒子非弹性碰撞的结果。
等离子体是由电子、正离子和中性粒子（包括所有不带电粒子，涂膜附着力检测仪如原子、分子和原子团等）组成的电离气体，对外是电中性的。等离子体被称为除固体、液体和气体之外的第四种物质状态。低温等离子体处理主要有四种形式。1.表面蚀刻在等离子体作用下，材料表面的一些化学键断裂，形成小分子产物或被氧化成CO、CO2等，这些产物被泵送过程抽走，使材料表面变得不平整，粗糙度增加。
实践中，涂膜附着力检测仪也有用户采用退火工艺来达到上述效果，但与等离子设备相比，它既耗时又耗电。plasma又叫做电浆，是一种离子化气体状物质，是在去除部分电子后，原子和原子被电离而形成的一种离子化气体状物质，在宇宙中广泛存在，并经常被认为是除固、液、气以外物质存在的第四态。电浆是一种很好的电导体，它利用合理设计的磁场能够捕获、移动和加速等离子体。。
清洗设备趋势与半导体设备销售趋势一致，涂膜附着力的检测标准为反映了清洗设备需求稳定，在晶圆清洗设备主导市场后，其占总销售额的份额反映了这种情况，并且正在（显着）增加。半导体产业链单片清洗设备和清洗工艺的改进（升级）。这种市场份额的变化是工艺节点不断缩小的必然结果。。就全球市场份额而言，自 2008 年业界推出 45nm 结以来，单晶圆清洗设备作为主要的等离子发生器，其性能已超过自动清洗设备。
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等离子处理设备与灼烧处理相比，不会损害样品，同时还可以十分均匀地处理整个表面，不会产生有毒烟气，盲孔和带缝隙的样品也可以处理。 三、表面刻蚀 在等离子刻蚀过程中，通过处**体的作用，被刻蚀物会变成气化物（例如在使用氟气对硅刻蚀时）。处**体和基体气化物质被真空泵抽出，表面连续被新鲜的处**体覆盖。
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