2.等离子发生器处于等离子状态: (1)平衡等离子体等离子体发生器:具有高气压且电子温度和气体温度几乎相等的等离子体。常压下的电弧放电等离子体和高频感应等离子体。 (2)非平衡等离子体等离子体发生器:在低压或常压下,温度对附着力的影 响电子温度远高于气体温度。低压直流辉光放电、高频诱导辉光放电、大气压下DBD无声势垒放电产生的冷等离子体等。低温等离子发生器产生技术・ DC辉光放电等离子体发生器・低频放电等离子发生器。

温度对附着力的影 响

对于Te大大高于Ti和Tn的场合,基片温度对附着力的影响即低压气体的场合,此时气体的压力只有几百个帕斯卡,当采用直流高压或高频电压做电场时,由于电子本身的质量很小,在电场中容易得到加速,从而可获得平均可达数电子伏特的高能量,对于电子,此能量的对应温度为几万度k,而离子由于质量较大,很难被电场加速,因此温度仅有几千度。由于气体粒子温度较低(具有低温特性),因此把这种等离子体称为低温等离子体。

前者是接近1的电离程度,每个粒子的温度基本上是相同的,和系统处于热力学平衡状态,温度通常是5报;104 k以上,主要用于受控热核反应的研究;电子的温度远远高于离子。系统处于热力学不平衡状态,基片温度对附着力的影响宏观温度较低。一般气体放电产生的等离子体属于这一类它与现代工业生产密切相关。

其基本原理是:在低气压下,温度对附着力的影 响由ICP射频电源向环形耦合线圈输出,通过耦合辉光放电,混合刻蚀气体通过耦合辉光放电,产生高密度等离子体,在下电极RF作用下,在基片表面轰击,基片图形区域内的半导体材料的化学键被打断,与刻蚀气体产生挥发性物质,使气体脱离基片,抽离真空管道。

基片温度对附着力的影响

基片温度对附着力的影响

一、食品加工业中的去腥、灭jun保鲜应用在食品加工过程中,低温等离子通常用于食品的杀菌消毒和去腥保鲜,比方说食品加工的除腥、灭jun环节;后厨空间的杀菌消毒;冷藏室的杀菌保鲜等。

离子在宇宙的其他地方很丰富,但仅限于地球上的某些环境中。自然产生的离子包括闪电和极光。正如将固体变成气体需要能量一样,产生离子也需要能量。随着温度的升高,物质从固态变为液态,液态变为气态。当气体温度升高时,气体分子被分离成原子。随着温度继续升高,原子核周围的电子与原子分离,形成离子(正电荷)和电子(负电荷)。这种现象称为“电离”。通过电离而带有离子的气体称为“等离子体”。

对于甲烷CO2氧化一步制C2烃,目前的共识是CO2在等离子体作用下分解产生一氧化碳和激发的亚稳态活性氧。这种氧物质在甲烷氧化偶联反应中。

等离子体发生器的中心电极、外部电极和绝缘体组成放电区,高压发生器需要将电源电压转换成高压(最高10kV)。电源电压和工艺气体通过弹性管输送到放电区。电弧中产生的活性粒子(i+,e-,R*)由气流从放电区带出。借助等离子喷枪,可以产生稳定的大气压离子体。工作时,将空气或其他工艺气体引入喷枪,通过高频高压电流将能量施加到气体上。最后从喷枪前端的喷嘴喷出必要的等离子体。

基片温度对附着力的影响

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