采用较高功率或等离子体具有的高能粒子数量较多时，粉体颗粒间的附着力和重力这些粒子及等离子体中的紫外射线会对材料表面产生轰击作用，进而实现材料表面的刻蚀、交联及表面活化等。当来自聚合物表面一个链的自由基与来自另一个链的自由基结合形成键时，就会在聚合物表面发生交联。表面活化作用涉及表面自由基与原子或化学官能团的重组，形成与材料表面官能团不同的基团，进而获得具有不同性质的表面，实现表面改性。
在整个清洗过程中，粉体颗粒间的附着力和重力污染物在外部的分子结构非常容易与高能氧自由基紧密结合形成新的氧自由基，这些新的氧自由基也处于高能状态，极不稳定，它很容易将自身转化为更小的分子结构，当产生新的氧自由基时，这样的全流程将持续进行，直到转化为稳定易挥发的简单小分子，使污染物从金属表面分离出来，在这个整个过程中，氧自由基的关键功效在于活化全过程的能量转移，在氧自由基与外界污染物分子结构紧密结合的全过程中，会释放出很多结合能，释放出的能量作为推动外界污染物分子结构新的活化反射的驱动力，有助于污染物在等离子体的活化作用下被更彻底地消除。
不仅如此，粉体颗粒间的附着力和重力整个等离子清洗进程是比较安全的，不会让操作人员遭到溶剂的伤害，一起也保证的清洗目标的清洗作用，避免选用湿法清洗对清洗目标的破坏。除此之外，在整个清洗进程中运用的溶剂都是绿色环保的清洗剂，不会对环境形成污染。
除磁场外，粉体颗粒间的附着力和重力如果存在其他外力F，粒子除沿磁场作垂直运动外，还具有回旋和漂移两种运动。漂移运动是指拉莫尔圆的中心(引导中心)随磁场的垂直运动，这种运动可以是由静电或重力引起的。在磁场不均匀的情况下，磁场梯度和磁场曲率也可以引起漂移。静电使正电荷和负电荷相等地漂移，所以不产生电流。与不产生静电的正电荷和负电荷漂移相反，产生了电流。由于磁场在时间和空间上变化缓慢，粒子的运动可以看作是回旋运动和中心引导运动的叠加。
粉体颗粒间的附着力和重力
带电粒子在均匀恒定的磁场中运动是非常简单的。平行场的等速运动和垂直场的等速运动是绕磁力线的圆周运动（拉莫尔圆），即带电粒子的回旋运动。如果除磁场外还有其他外力F,粒子除了沿磁场垂直运动外，还会作回旋运动和漂移运动。漂移运动是指拉莫尔圆的圆心（导心）随磁场垂直运动，可由静电或重力引起。在磁场不均匀的情况下，漂移也可由磁场梯度和磁场曲率引起。静电引起的正负电荷漂移是相同的，因此不产生电流。
平行磁场是匀速运动，垂直磁场是绕磁力线做圆周运动（ramer circle），即带电粒子的回旋运动。当有磁场以外的另一个外力F时，粒子沿磁场运动，在与磁场垂直的方向上，一侧做回旋运动，另一侧做漂移运动。漂移运动是拉莫尔圆的中心（即导轨的中心）垂直于磁场的运动，可以由静电力或重力引起。在磁场不均匀的情况下，磁场梯度、磁场曲率等也会引起漂移。此外，由于静电力引起的正负电荷漂移相同，因此不会产生电流。
由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗表面不受二次污染。。目前在微电子清洗工艺中，湿法清洗仍占主导地位。但从对环境的影响、原材料的消耗以及未来的发展来看，干洗明显优于湿法清洗。在干洗中，等离子清洗发展迅速且优势明显，等离子清洗已逐渐广泛应用于半导体制造、微电子封装、精密机械等行业。
同时，由于绝缘介质的存在，放电过程中形成的壁电荷有效地限制了放电电流的无限增长，避免了高压下电弧或火花放电的形成。 "产生DBD等离子体。由于等离子处理设备的惰性气体，它不含反应性粒子，当使用惰性气体DBD对材料表面进行改性时，表面基团的引入主要是等离子体处理。由于器件表面产生大量等离子体。 DBD等离子体作用后的物质被放置在空气中时的物质。它是由分子自由基和空气中的物质结合产生的。
附着力和附着作用
此时，附着力和附着作用在剪切应力作用下，胶粘剂的厚度越大，接缝的强度越大。(2)剥离应力:当粘接材料变软时，就会发生剥离应力。此时界面上有拉应力和剪应力，力集中在胶粘剂和胶粘剂界面上，所以接头容易损坏。由于剥离应力具有很强的破坏性，在设计中应尽量避免产生剥离应力的接头。。
反应性气体主要是化学反应，粉体颗粒间的附着力和重力经电离后，自由基与表面污染物发生反应，将生产中的挥发性物质排出，达到清洗的目的。氢气主要利用其还原作用与被清洗零件表面的污染物发生反应，如金属表面的氧化物清洗。氢作为放电气体参与反应产生还原反应，材料表面的氧化物与放电产生的氢离子反应生成水。氧气主要利用其氧化作用，如去除零件表面的有机物。氧作为气体参与反应产生氧化反应，材料表面的有机物被氧电离产生的氧离子氧化，形成二氧化碳和水。
