低温等离子处理装置对PBO纤维表面和未处理PBO纤维表面的影响是光滑的。剥落现象。这就是等离子处理过的 PBO 表面的蚀刻效果。增加的纤维和表面粗糙度，速度和附着力这也证实了处理过的 PBO 纤维的比表面积增加，这有利于改性 PBO 纤维的润湿性。增加抽吸高度、减小接触角、表面蚀刻、增加粗糙度和增加表面积。润湿速度。极性PBO纤维的元素组成和表面的变化也会发生变化，有助于提高PBO纤维的吸湿性。
在半导体工艺中，速度和附着力的关系通过控制氧气和氩气的通量，使具有强氧化性的氧等离子体与硅片表面的残留光刻胶发生氧化反应，生成气相结合物脱离硅片表面，达到清洁表面的作用。当等离子体具有很强的腐蚀性时，可以很好地达到刻蚀材料表面的目的，且由于腐蚀性的等离子体都具有各向异性，其刻蚀效果也具有易控制、质量高的特点。plasma清洗处理速度快，可达到每秒穿透几个纳米的厚度。
同时，速度和附着力该技术具有反应速度快、作用时间短、材料物理力学性能损失小、改性效果多样等优点，因此具有广阔的应用前景。低温等离子体作为一种无损表面处理技术，在高分子薄膜材料和纤维材料的表面处理方面显示出明显的优势。通过低温等离子体表面处理，可以在处理后的基底表面产生活性官能团，增加表面活性。
如果在在线等离子体清洗过程中使用O2混合物，速度和附着力其反应速度比单独使用Ar或O2要快。氩离子被加速后，产生的动能可以提高氧离子的反应能力，所以物理化学方法可以去除重污染材料的表层。。为了探讨纯乙烷在等离子体作用下的转化反应，对纯乙烯在相同条件下的转化反应进行了研究:为了研究纯乙烷在等离子体作用下转化反应的可能机理，在相同的等离子体条件下，研究了纯乙烯的转化反应。反应的主要产物是C2H2、CH4和少量的积碳。
速度和附着力的关系
整个进程就是依托等离子体在电磁场内空间运动，并炮击被处理物体外表，大多数的物理清洗进程需求有高能量和低压力。在炮击待清洗物外表以前,使原子和离子到达较大的速度。 因为要加速等离子体,所以需求高能量,这样等离子体中的原子和离子的速度才能更高。需求低压力是为了在原子之间磕碰前增加它们之间的平均距离,这个距离指平均自由程,这个路径越长,则炮击待清洗物外表的离子的概率越高。
正是因为涂层工艺对铜箔基材的表面张力有较高的要求， 等离子清洗设备正好可以有效的解决这一问题。在引入等离子体后，铝箔表面能量由30倍提高到60达因以上，从而形成了良好的涂层表面，提高了涂层速度。。
使用等离子设备，一方面可以拓展企业的产品市场，另一方面也可以提升企业的产品档次，使企业在不断变化的市场需求中拥有通往成功的有力武器。为了有效实现印制电路板的制造，不同工艺的印制电路板预处理直接关系到产品的质量，这已成为业界共识。
等离子体温度：一般情况下，物质只有在热力学平衡时才能用确定的温度T来描述。温度是物质内部微观粒子的平均平动动能的量度，粒子的平均平动动能与热平衡温度的 关系可用下面描述。公式中m是粒子的质量（kg）；v是均方根速度（m/s）；k是玻尔兹曼常数（1.380 650 5×10^-23J/K）。等离子体技术等离子体的宏观温度取决于重粒子的温度，采用Te、Ti和Tg分别表示电子温度、离子温度和中性粒子温度。
速度和附着力
硬盘塑件科学的发展，速度和附着力随着技术的不断进步，电脑硬盘的性能也在不断提高，其容量越来越大，盘片数量越来越多，转速高达7200转/分，对硬盘的结构要求越来越高。硬盘内部部件之间的连接效果直接影响硬盘的稳定性、工作可靠性和使用寿命，这些因素直接关系到数据的安全（完整）。服务器上的硬盘数据非常重要，而随着硬盘存储容量的不断增大，越来越难以满足稳定性的要求，因此提升服务器硬盘的稳定性成为业界不懈的追求。
