干法蚀刻加工设备包括反应室、电源、真空等部件。工件被送到反应室，橡胶与帘子布的附着力不好气体被引入等离子体并进行交换。等离子体蚀刻工艺本质上是一种主动等离子体工艺。最近，反应室中出现了架子的形状。这允许用户灵活移动以配置适当的等离子体蚀刻方法（反应等离子体（RIE）、下游等离子体（DOWNSTREAM）、直接等离子体（DIRECTIONPLASMA））。
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O形圈可出示足够的密封预紧力，橡胶与帘子布的附着力不好并赔偿PTFE环的损坏。 O型密封圈要害用以真空等离子清洁器的真空腔与其他构件相接的真空等离子清洁器中，并具有密封成效，比方真空腔与真空门中心的密封，入料电级 和真空腔中心的密封及其真空腔和真空管路中心的密封等。 2.真空等离子清洁器上使用的管道支架密封件 管路支撑点密封件的要害优势是安裝比较简单快捷，不用使用一切专用工具。 密封特性比较好。
还可以对膜的反面进行处理，橡胶与帘子布附着力有时根据工艺要求可以避免。另外，经电晕处理后获得的表面张力不能长期保持稳定，处理后的产品往往只能存放有限的时间。4、常压等离子处理技术：常压等离子处理机技术是在大气压条件下产生的等离子体，常压型等离子体处理技术成本低，性能优良，可作为真空等离子体和电晕等离子体的工艺替代和工艺改进，得到广泛应用。
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这些活性粒子可以与表面材料发生反应，反应过程如下：电离-气体分子-激发-激发态分子-清洗-活化表面等离子体产生的原理是对一组电极施加射频电压（频率约为几十兆赫），在电极之间形成高频交流电场。在交变电场的激发下，该区域的气体产生等离子体。活性等离子体在清洗后的材料表面轰击反应，使表面材料变成颗粒和气体物质，再通过真空放电达到清洗的目的。工艺1：去除有机化合物首先，利用等离子体原理激活气体分子。
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