低温等离子处理器的清洗是利用等离子附着在固体表面的高效能量，硅片等离子体表面处理打破表面高分子有机物的分子链，形成小分子，进一步打破小分子链，形成H2O和CO2，最后使分子气化，剩余分子产生极性基团，增加表面能。
等离子体表面处理设备用于覆膜彩盒包装，硅片等离子体蚀刻机经过处理后在覆膜表面发生多种物理、化学变化，或蚀刻而粗糙，或建立紧密的交联层，或引入氧极性基团，润湿性好，附着力强，可染色，生物相容性好引入多种含氧基团，提高了键合表面的表面能，使其从非极性、难粘的表面转变为极性、易粘和润湿性。相当于一般印刷纸和一般印刷纸的胶粘剂，产品质量更稳定，完全、彻底避免脱胶问题。
随着高新技术产业的快速发展，硅片等离子体表面处理对产品使用的各种工艺的技术要求越来越高。等离子体表面处理技术的出现，不仅提高了产品性能，提高了生产效率，而且实现了安全环保的效果。
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硅片等离子体表面处理
低温等离子清洗采用高真空、高频能量和混合活性气体流动去除板上的胶水，能有效改善因化学剂去除咬胶过度而造成的涂层质量，在刚性柔性粘接板的加工中已广泛应用。近年来，随着未来对可穿戴电子产品需求的显著增加和微电机设备的应用，越来越多的多层柔性板或刚性柔性板被用于我们的日常生活中。
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其结果是形成电离空气云(或电晕放电)，然后用于塑料和其他材料的表面处理。因此，放置在电晕清扫器放电下的物质被电子轰击，其能量是破坏表面分子键所需能量的两到三倍。自由基与放电产物之间的氧化反应较快，或同一或不同链上的自由基迅速反应生成交叉链。表面氧化增加表面张力或表面能，使液体更加湿润，促进粘附。
射频电源等离子体发生器及其频率的选择是保证电离质量和工艺灵活性的两个重要参数。对于清洗应用，RF发生器的频率是标准，它决定了气体是否能很好地激发到等离子体中。13.56 mhz是最常用的频率。射频发生器也与匹配网络相关联。如果阻抗负载不能准确调整，射频发生器会因为接收波的反馈而损坏。为了获得良好的清洗效果，必须进行匹配调整。一个合适的匹配系统和一个高质量的射频发生器将自动调整负载阻抗，即使清洗条件和操作变化。
硅片等离子体蚀刻机
