在等离子体化学反应过程中，电晕处理机保养点检表等离子体转移化学能过程中的能量转移大致如下：（1）电场+电子→高能电子（2）高能电子+分子（或原子）→（受激原子、受激基团、游离基团）活性基团（3）活性基团+分子（原子）→产物+热（4）活性基团+活性基团→产物+热量从上述过程可以看出，电子首先从电场中获得能量，并通过激发或电离将能量传递给分子或原子。得到能量的分子或原子被激发，一些分子同时被电离，从而成为活性基团。
通常情况下，电晕处理机保养点检表物质以固态、液态和气态三种状态存在，但在某些特殊情况下，还存在第四种状态，比如地球大气中电离层中的物质。处于等离子体状态的物质有以下几种：高速运动的电子；处于激发（活性）状态的中性原子、分子和原子团（自由基）；电离原子和分子；未反应的分子、原子等，但物质作为一个整体保持电中性。等离子体清洗机的机理主要依靠等离子体中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。
工业互联网从单点智能向全域智能过渡，电晕处理机保养点检表受到实施成本和复杂度高、供给侧数据难以打通、整体生态不完善等因素的限制。目前，工业智能化仍以解决碎片化需求为主。
等离子刻蚀机在晶圆及电路板制造业中的应用；一、等离子刻蚀机的应用（1）在晶圆制造行业的应用在芯片制造行业，电晕处理机报警撒原因四氟化碳气体用于硅片的线刻蚀，等离子刻蚀机使用四氟化碳进行氮化硅刻蚀和光刻胶。利用纯四氟化碳气体或四氟化碳与氧气结合，等离子刻蚀机可在晶圆上形成微米级氮化硅刻蚀，四氟化碳与氧气、氢气结合可去除四氟化碳。（2）在PCB制造行业的应用智能制造等离子刻蚀机的刻蚀在电路板制造行业应用很早。
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但不能去除碳和其他非挥发性金属或金属氧化物杂质。光刻胶的去除过程中常采用等离子体清洗。在等离子体反应体系中引入少量氧气，在强电场作用下，氧气产生等离子体，使光刻胶迅速氧化为挥发性气体状态，抽走物质。该清洗技术操作方便，效率高，表面清洁，无划痕，有利于保证产品质量。而且它不需要酸、碱和有机溶剂，因此越来越受到人们的重视。。
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