例如，电晕处理硅胶表面氧电晕氧化性高，可氧化光刻胶产生气体，从而达到清洗效果；腐蚀气体的电晕具有良好的各向异性，可以满足刻蚀的需要。电晕处理会发出辉光，故称辉光放电处理。真空电晕设备电晕处理的机理主要依靠电晕中活性粒子的“活化”来去除物体表面的污渍。
在pcb印刷电路板生产过程中具有良好的实用性，电晕处理硅胶表面是一种清洁、环保、高效的清洗方法。电晕表面处理技术是一种新型半导体制造技术。该技术在半导体制造领域应用较早，是必不可少的半导体制造工艺。因此，它是IC加工中一项长期而成熟的技术。由于电晕是高能量高活性物质，对任何有机材料都有很好的刻蚀效果，电晕制作是一种干法工艺，不会造成污染，因此近年来被广泛应用于pcb印制电路板的制作。
说到汽车储物箱，电晕处理机电晕机人们应该会想到静电植绒，那么低温电晕在储物箱植绒过程中能起到什么作用呢？以往在植绒过程中，通常在基材上胶前先涂一层底漆，这是为了方便胶水与收纳盒更好地结合。低温电晕表面处理技术可替代涂胶前的底漆涂装工艺。据试验统计，电晕处理后的键合效果更好，降低了生产成本。
由于采用气体作为清洗处理的介质，电晕处理机电晕机可有效避免样品的再次污染。电晕不仅能加强样品的附着力、相容性和润湿性，还能对样品进行消毒杀菌。电晕已广泛应用于光学、光电子、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微流体等领域。
电晕处理硅胶表面
金属条一般为铝薄或铜薄。原来的湿式乙醇清洗容易对锂电池的其他部件造成损伤。干式电晕可以有效地解决上述问题。。常用的电晕激励频率有三种：激励频率为40kHz的超声电晕、激励频率为13.56MHz的射频电晕和激励频率为2.45GHz的微波电晕。不同电晕的自偏压不同，超声电晕的自偏压约为0V，射频电晕的自偏压约为250V，微波电晕的自偏压很低，只有几十伏。
根据电晕产生的条件，电晕可分为真空电晕或大气电晕。真空电晕加工广泛应用于微电子领域，但在线处理要求大气法。去除的污染物可能是有机物、环氧树脂、光刻胶、氧化物、颗粒污染物等，实际上电晕器可以对样品进行表面改性，去除表面的有机物，从而实现各种材料的粘接和涂层。广泛应用于光学、光电子、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生物医学、微流控等领域。。
（1）在晶圆制造中的应用在晶圆制造中，光刻用四氟化碳气体蚀刻硅片，电晕用四氟化碳去除氮化硅蚀刻和光刻胶。电晕可以在晶圆制造中用纯四氟化碳气体或氮化硅中的四氟化碳和氧气去除微米光刻胶。(2)PCB制造应用电晕蚀刻尤其早于电路板制造行业，在硬质电路板和柔性电路板的生产过程中，传统的工艺都是采用化学清洗。
我们应该考虑这样一个无碰撞的过程：热运动速度&Nu；运动的电子，无论它们如何进入皮肤深度&δ；会在强感应电场区域回到电晕中。电子通过这个电场区的时间&δ；/&nu；约等于或略小于高频电压周期2&pi；/&Omega；电子的加速和减速是随机发生的，电子经过统计平均后可以高效地获得能量，这就是反常趋肤效应。
电晕处理硅胶表面
