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可用于刻蚀表面减反射材料层的化学气体为Cl2/SF6/CF4/CHF3/BCI3/Ar/O2的组合,等离子刻蚀matlab仿真TiN减反射膜用CI2刻蚀。 / BCI3 / N2 / CHF3。组合。另外,暴露在空气中的铝的氧化几乎同时发生,因此有必要抑制或控制氧化铝的产生。否则,蚀刻将停止。下面详细描述蚀刻铝金属复合膜的一般程序。 ①蚀刻减反射层。 (2)预蚀刻去除表面的自然氧化层(可与步骤(1)结合使用)。