如微细结构电子线路的刻蚀、光致抗蚀膜的清洗、提高尖端部位绝缘层等各种薄膜的覆盖能力等均可以采用等离子体清洗技术。虽然它应用到生产实践中的时间还不长，薄膜附着力的症状但已证明它确实具有实用性强、可靠性好、经济性佳及无公害性的优点。。
其次，光学薄膜附着力国家标准等离子处理后的手机屏幕在涂覆或喷涂时，等离子设备中的活性成分会迅速与材料、喷涂材料形成化学键合，可大大提高分子间键合强度，使薄膜不易松动。在LCD的COG组装过程中，将芯片IC安装到玻璃上，利用金球的压缩变形将ITO玻璃上的引脚与IC上的引脚连接起来。由于细线技术的不断发展，现已发展到生产螺距20um、线10um的产品。
低功率的等离子处理，光学薄膜附着力国家标准能够改变薄膜表面结构，增加热稳定性、机械性能、阻隔性能，减少薄膜透光性和水溶性，同时具有优良的薄膜表面的灭（菌）功能，满足了食品包装在食品工业中应用的加工性及（安）全卫生性要求，进一步拓展了未来绿色包装材料的研发空间，也为低温等离子处理技术的多功能应用提供了可能。。
这种刻蚀既有化学作用又有物理作用，光学薄膜附着力国家标准有良好的刻蚀效果,同时兼有各向异性和选择性好的优点。目前,RIE已成为超大规模集成电路制造工艺中应用最广泛的主流刻蚀技术。。近年来，随着市场需求的不断扩大，液晶显示屏和功能面板玻璃或触摸屏的贴合已成为提高显示器环境适应性能和可靠性的有效措施，尤其在车载显示领域，全贴合技术已经成为主流技术，目前主要采用液态光学胶（LOCA/OCR）作为全贴合的介质。
薄膜附着力的症状
表面等离子体处理设备的等离子体剥离使用了优秀的组件和软件，可以轻松控制工艺参数，其过程监控和数据采集软件可以实现严格的质量控制。这项技术已经成功。适用于功率晶体管、模拟器件、传感器、光学器件、光电子器件、电子器件、MOEMS、生物器件、LED等领域。加工前治疗后研究发现，硅片表面在处理前残留大量光刻胶，经表面等离子体处理设备等离子体脱胶处理后，表面光刻胶全部去除，效果很好。。
等离子体聚合用于保护膜、光学材料、电子材料、分离膜、医用材料等的表面改性已得到广泛的研究。等离子体表面处理器中的等离子体聚合可用于制备导电聚合物薄膜，在电子器件和传感器等方面具有广阔的应用前景，还可用于制备光刻胶膜、分离膜、绝缘膜、光学材料的反射率和折射率控制、薄膜波导、生物医用材料等质膜。分离中研究最多的质膜有气体分离膜、渗透汽化膜和反渗透膜。
科学研究结果表明，低温等离子体表面处理设备在生物育种中具有以下五种基本功能:1、显著提高萌发潜力和成活率。低温等离子体表面处理设备能提前1~2d促进种子萌发和发芽。发芽势和发芽势也显著提高，特别是老种子和发芽势低的品种可以提高发芽势10% ~ 15%;2、减轻症状。
光学薄膜附着力国家标准
