等离子体清洗以物理反应为主，氧化膜附着力检查方法不发生化学反应，清洗表面不留氧化物，可保持被清洗物质的化学纯度；缺点是表面有少量损伤，会产生很大的热效应，清洗后物体表面的各种物质选择性差，腐蚀速率低。用化学反应等离子体进行清洗，优点是清洗速度快，选择性好，更有效地去除有机物，缺点是表面会产生氧化物。与物理反应相比，化学反应的缺点不易克服。
随着空气越来越稀薄，氧化膜附着力差怎么回事分子与分子或离子自由移动的距离越来越远，等离子体在磁场中碰撞而形成光泽。等离子体在电磁场中的空间运动，不断轰击被处理物体的外观，去除外观的油污、外观的氧化物、灰化外观的有(机)物等化学物质，从而达到表面处理、清洁和腐蚀的（效）果。
例如，氧化膜附着力检查方法氧等离子体氧化性高，可氧化光刻胶产生气体，从而达到清洗效果；腐蚀气体的等离子体具有良好的各向异性，可以满足刻蚀的需要。等离子体处理会发出辉光，故称辉光放电处理。等离子体清洗设备的机理主要取决于&ldquo；激活&rdquo；达到去除物体表面污渍的目的。
氩气本身是惰性气体，氧化膜附着力检查方法等离子态的氩气并不和外表发作反响，较常用的工艺是氩等离子经过物理溅射使外表清洁。等离子体物理清洗不会发作氧化副作用，坚持被清洗物的化学纯洁性，腐蚀作用各向异性，缺点是对外表发作很大的损害和热效应，挑选性差，速度较低。
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氩气本身是惰性气体，等离子体的氩气不和表面发生反应，而是通过离子轰击使表面清洁。典型的等离子体化学清洗工艺是氧气等离子体清洗。通过等离子体产生的氧自由基非常活泼，容易与碳氢化合物发生反应，产生二氧化碳、一氧化碳和水等易挥发物，从而去除表面的污染物。
等离子体与工件表面的化学反应与传统的化学反应有很大的不同。由于高速电子的轰击，许多在室温下非常稳定的气体或蒸气以等离子体的形式与工件表面发生反应，产生许多奇特而有用的效果。清洗和蚀刻:例如，清洗时，工作气体经常是用氧，它是加速电子轰击成氧离子、自由基，氧化性很强。
血浆&rdquo；活动&rdquo；成分包括：离子、电子、活性基团、激发态核素（亚稳态）、光子等，等离子体表面处理机就是利用这些活性成分的性质对样品表面进行处理，达到光刻胶清洗、改性、灰化的目的。
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A、原子团等自由基与物体表面的反应B、由于这些自由基呈电中性，氧化膜附着力检查方法存在寿命较长，而且在等离子体中的数量多于离子，因此自由基在等离子体中发挥着重要的作用。
