处理速度
处理速度是指等离子清洗设备喷头的移动速度,处理速度范围为1m/min~200m/min。随着处理速度的提高,等离子处理效果会逐渐减弱。
处理功率
处理功率,是指等离子发生器的功率,随着等离子体反应功率的增加,材料表面的刻蚀率随之增加,,这是因为在较大的功率下气体分子被激发生成等离子体后,单个等离子体粒子所携带的能量更高,飞行速度也较大,对材料表面的撞击更剧烈,使得等离子体与材料表面反应的更加彻底,更多的大分子被打断形成的小分子,进一步氧化成气体分子挥发到周围环境中,使材料的刻蚀率得到明显的改善。
处理高度
处理高度是指等离子清洗设备喷嘴距离被处理物体的高度,处理高度有效范围一般为0-10mm。
随着等离子处理过程中喷头与样品距离的增加,处理效果相应减小。这可以解释为等离子喷头与材料表面距离小的时候,喷头里流出的气体粒子会被材料表面阻挡,因此粒子与材料表面的碰撞摩擦增加,一部分粒子甚至被材料表面反射回去。由于这些高能量粒子不断的与材料表面碰撞,会造成材料表面的分子链断裂,进一步被氧化成可挥发性物质脱离材料表面,这样就增加了材料的刻蚀率。当喷头高度过高时,喷头流出来的粒子没有受到阻挡,会逸散到周围的空气中,粒子携带的能量流失,对材料的作用微弱,刻蚀率因而降低一。