这种无序的衬底条件也会导致区域温度过热，pp膜附着力好树脂氮化特性会有别于其他衬底。但对于常规等离子渗氮工艺中的反常辉光放电，放电参数相互关联耦合，无法单独改变某一放电参数来控制渗氮过程。为了克服上诉的缺陷，研究人员开发了一种低压等离子体，当气压低于10Pa时，就不会发生异常辉光放电。等离子体可以通过射频激励微波或热灯丝释放高能电子的激波电离产生。
等离子体技术主要在真空、放电等特殊场合产生。低压气体辉光法是一种基于等离子体活性组分的反应。其主要过程包括：首先将待清洗工件送入真空系统固定，0pp膜附着力好的树脂真空泵等设备将真空逐渐排出至10Pa左右的真空度；然后将等离子体清洗气体送入真空系统（根据清洗材料的不同，可选择不同的气体，如氧气、氢气、氩气、氮气等。
他们首先用氩等离子体（频率 40kHz，0pp膜附着力好的树脂功率 35W，氩气压力 80Pa）对 PTFE 进行预处理。然后，暴露在大气中约10分钟，形成氧化物和过氧化物，在其上进行甘油丙烯酸酯的接枝共聚，即GMA，再将铝热蒸发形成GMA，生成接枝共聚物。 A 是 PTFE 和 Al 之间的 22 倍，而 PTFE 和 Al 之间是单独用 Ar 等离子体预处理的 3 倍。
更高的劳动保护投入，pp膜附着力好树脂特别是电子组装技术和精密机械制造的进一步发展，对清洁技术提出了越来越高的要求。环境污染防治也增加了湿法清洁的成本。相对而言，干洗在这些方面具有显着优势，尤其是以等离子清洗技术为主的清洗技术，已逐渐应用于半导体、电子组装、精密机械等行业。因此，有必要了解等离子清洗的机理及其应用过程。自1960年代以来，等离子技术已应用于化学合成、薄膜制备、表面处理和精细化学品等领域。
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