高频电源:电源的两极分别连接到机器电极和样品台(FPC、PCB固定夹具架)，德谦附着力增进剂1051电源两极之间的频率为50MHZ ~ 200MHZ。一种磁场形成装置，可产生10高斯到110高斯的静态磁场或低频磁场。等离子体强度可通过触摸屏(或控制计算机)设置等离子体发生装置来控制。
等离子体可分为热力学平衡等离子体和非热力学平衡等离子体。当电子温度Te等于离子温度Ti和中性粒子温度Tg时，1051附着力促进剂等离子体物体处于热力学平衡状态，称为平衡等离子体或热等离子体，其温度一般在5×103K以上。例如，在太阳表面，由于6000℃以上的高温，所有物质都呈等离子体状。当Te“Ti”时，称为非热平衡等离子体。电子温度可高达104K，而体系中离子和中性粒子的温度可低于300～500K。
在10nm工艺中已经利用CO-H2成功地形成了光刻等离子体蚀刻关键尺寸差异小于1nm，1051附着力促进剂直径15nm 的接触孔。 越来越接近硅半导体的瓶颈，新材料不断地涌现，且实现的器件也越来越多，并更接近量产。这些即将出现在半导体集成电路里面的新材料，对于蚀刻很有挑战。这类材料一般都具有更好的导电性和化学活性，偏向于化学蚀刻更多一点。
预计到2026年，德谦附着力增进剂1051我国柔性电路板市场规模将达到2519.7亿元。是一家专注于等离子研发、生产和销售10年的等离子系统解决方案提供商。拥有专业的研发团队，与国内多所高校和科研院所合作，配备完善的研发实验室。公司现拥有多项自主知识产权和国际发明证书。已通过ISO9001质量管理体系、CE认证、高新技术企业认证等。。
