等离子等离子体和催化剂联合作用下 CH 的 CO2 氧化为 C2 烃的研究结果表明： LA203/Y-AL203在同等等离子体条件下可显着提高C2烃类产品的选择性，40cr氮化处理深度其C2烃类产品选择性比更高的Y-AL203高40个百分点，因此C2烃类产品的收率较高。负载型金属催化剂PD/Y-AL203对C2烃类产品的收率影响不大，但可以显着改变C2的分布。
线宽越窄，40cr氮化处理深度怎么控制在有限的区域内可以嵌入的线越多，有助于智能手机等电子产品的小型化和低功耗化。因此，在逻辑半导体和存储半导体方面，上述趋势非常明显。由于应对小型化需要巨额投资，许多日本公司正在放弃竞争。比如瑞萨的一些逻辑半导体线宽是40纳米（1纳米是十亿分之一米），我们把线宽窄的产品外包给台积电。海外企业已经开始量产小于10纳米的产品，日本企业想要赶上来并不容易。
3. 真空等离子清洗机频率选择 典型频率为 40KHz、13.56MHz、20Mhz。 40kHz的自偏置电压约为1000V，40cr氮化处理深度怎么控制13.56MHz的自偏置电压约为250V，20MHz的自偏置电压较低。这三种激励频率的机制是不同的。 40kHz 的反应是物理反应。在 13.56MHz 发生的反应包括物理和化学反应。在20MHz，有物理反应，但最重要的反应是化学反应。
无论是使用 13.56 MHZ 的高频激发还是 40 KHZ 的中频激发，40cr氮化处理深度怎么控制当等离子体发生器在特定的真空环境中向电极施加能量时，两个电极之间就会产生电位差，从而激发气体产生等离子体。作为电极的材料，通常使用全金属铝板，或者在全铝板的基础上打孔。电极的作用是电容的特性，充电后对极板充电，形成电位差。集中一些能量后，填充在两...
