上世纪80年代中后期，9003附着力促进剂指标凡林半导体公司成功研制出彩虹等离子体刻蚀设备（介质材料刻蚀），使凡林半导体公司成为该领域的专业人士之一。上世纪90年代初，他加入应用材料公司，负责等离子清洗机等离子刻蚀部的研发工作。他开发或参与开发的产品约占等离子体刻蚀领域的50%。在两大蚀刻设备厂商的独特经历，让他更新对应不同技术节点的蚀刻机。
在90nm时，9003附着力促进剂接触孔蚀刻顺序为先去除光阻剂再蚀刻接触孔停止层，而在65nm/55nm时，接触孔蚀刻顺序为先去除光阻剂再蚀刻接触孔停止层。由于90nm和65nm/55nm器件的临界尺寸要求，几乎不需要蚀刻来缩小接触孔的尺寸。
大气压低温等离子体中甲烷转化反应：甲烷(CH4)是天然气的主要成分，9003附着力促进剂指标占天然气总量90%以上。天然气储量十分丰富，2015年世界已探明天然气储量为1.97x1021m3，在我国天然气可采储量为4.94x1018m3。
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9003附着力促进剂指标
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等离子表面处理机多晶硅栅极蚀刻： 当CMOS工艺延伸到65nm及以下工艺节点时，203附着力促进剂是危化品吗等离子表面处理机栅极的蚀刻制造面临诸多挑战。作为控制沟道长度的关键工艺，多晶硅栅极的图形与器件性能紧密相连，牵一发而动全身。摩尔定律推动黄光图形技术从248nm波长光源工艺转向193nm 波长...
5G加速FPC产业升级- 等离子设备/清洗 近年来，长兴4901附着力促进剂FPC产业发展迅速，整体呈上升趋势。据电子产业咨询公司Prismark统计，2018年全球FPC产值为128亿美元，预计2022年全球FPC产值将达到149亿美元。由于中国大陆FPC行业起步较晚，目前，全球FPC生产企业主...
增长大于周期性，油性烤漆附着力促进剂竞争环境非常集中近20年稳定增长，年均增长8% 1992年半导体设备产业规模仅为81亿美元，1995-2003年稳定在200-300美元，2004-2016年稳定在1亿美元，2017年稳定在30-400亿美元。从 2011 年到 2018 年，它上升到 55-65...
