他在两家主要蚀刻设备制造商的独特和成功经验，CCP蚀刻设备使他能够升级对应于不同技术节点的蚀刻机。2004年，他辞去应用材料副总裁一职，回到中国目前，中微半导体设备有限公司研发的等离子清洗机CCP蚀刻机，采用超高频和低频混合射频解耦的无功等离子源，独特的多反应腔双反应平台系统，在蚀刻28nm逻辑低介电材料和存储器介电材料方面取得突破性进展，并进入市场。
有几种情况:A、电容封装会导致寄生电感;电容带来一些等效电阻;电源引脚和解耦电容之间的导线会引入一些等效电感;接地引脚和接地平面之间的导体会引入一些等效电感。由此产生的效果:a .电容在特定频率会产生共振效应，CCP蚀刻设备它产生的网络阻抗会对相邻频段的信号产生较大影响;等效电阻(ESR)也会影响高速噪声解耦所形成的低电阻路径。以下总结了这对数字设计师的影响:A.设备上的Vcc和GND引脚的引线需要被视为小电感。
中国大陆已成为全球最大的铜复板生产地，CCP蚀刻全球工业产值份额达到65%，但大部分产能停留在低端领域，国内铜复板的平均单价远低于世界其他国家。CCL供应链透露，铜箔目前处于严重需求状态，交货期不断延长，价格也一波接一波上涨。这一次，大多数业内人士认为，电动汽车和5G的机遇已经到来。在新的铜箔生产能力建立起来之前，供应短缺可能会成为2-3年的日常问题。
除了通道通孔生产的中高宽高比带来的三个主要挑战之外，CCP蚀刻接触孔蚀刻需要提供更高的蚀刻停止层选择比。通常使用电容耦合等离子体蚀刻(CCP)来完成这一过程。与通道透孔蚀刻的工艺要求相似，接触孔蚀刻也需要比逻辑蚀刻工艺更强的偏置功率，通常需要...
