同时，ITO膜印银浆无附着力由于射流低温等离子体为电中性，等离子体清洗机在加工过程中不会损伤保护膜、ITO膜和偏振滤光片。
8.半导体工业a.晶圆及晶圆制造：光致抗蚀剂去除；b.微机电系统(MEMS):SU-8胶水的去除；c.芯片封装：铅垫清洗，ITO膜印银浆无附着力倒装底充，提高封胶粘接效果；D.失效分析：拆装；e.电连接器、航空插座等。9.等离子体清洗机在太阳电池上的应用太阳能电池的蚀刻，太阳能电池封装的预处理。10.平板显示器a.清洁活化ITO面板；B.去除光刻胶；c.清理国家场地(COG)。。
等离子清洁器相变存储器的 GST 蚀刻工艺：GST 是当今广泛使用的相变材料，ITO膜印银浆无附着力其等离子清洁器蚀刻工艺是相变存储器所独有的。 1、等离子清洗机GST蚀刻气体屏蔽GST是相变存储器的核心材料，其体积直接影响器件的电性能，因此GST薄膜的完整性（INTEGRITY）非常重要。
研究表明，ito膜层与银浆附着力使用氧等离子体清洁装置对 ITO 进行等离子体处理可显着提高空穴注入和器件稳定性。用不同输出的等离子体处理ITO可以显着提高ITO的功函数并优化器件性能。有机电致发光器件（OLED）由于具有自发光、高亮度、宽视角等诸多优点，在显示和照明领域受到青睐，具有巨大的应用潜力。
ITO膜印银浆无附着力
