1、表面包覆改性的优缺点（高镍的nmc表面包覆改性） 如果您有更多等离子表面清洗设备相关问题，高镍的nmc表面包覆改性欢迎您向我们提问（广东金徕科技有限公司） 3) O2 在等离子设备产生的等离子环境中被电离，高镍的nmc表面包覆改性并产生许多含氧化学物质。这允许有效（高效）去除原材料表面上的有机污染物并吸附原材料表面上的化学性质。 , 以高（效率）提...
2、3nm蚀刻机（3nm蚀刻机已成功研制 国产芯片行业又一大步!） 它可用于增加引线键合强度。清洗时间不宜过长。如果清洗时间过长，3nm蚀刻机Si 3N4 钝化层中的颗粒会出现针状和纤维状的不良影响[4]。因此，选择 ArH2 的混合物。射频功率范围200～400W，时间180～600秒，流量50～150tor·s-1。如表 1 所示，我们使用 DOE 方法设计了 ...
3、二氧化硅刻蚀工艺nm级（二氧化硅等离子体清洁机器） 最重要的是，二氧化硅等离子体清洁机器等离子体表面活化剂的激发技术只能改变晶体表面层，不能改变材料本身的性能，包括机械、电气和机械性能。等离子表面处理的特点是清洁简单。流程、快速、高效。氧气和氩气都是非会聚气体。等离子体与晶体表面二氧化硅层上的活性原子和高能电子相互作用后，破坏了原有的硅氧键结构，将其...
