在许多工作中，pfa附着力促进剂CFC 用于从材料中去除碳氢油、油脂和其他污染物，而不会造成损坏或残留。然而，一些氯氟烃会吸收大气中的紫外线，然后分解，释放出氟原子，破坏地球大气中的臭氧层，保护地球免受太阳紫外线的伤害。另一种清洁剂全氟化碳 (PFC) 可以在平流层中保留 5,000 年。由于它们的长寿命和低振动模式能量，这些气体比二氧化碳对全球变暖的贡献更大。
在 CVD 过程中，pfa附着力促进剂一些残留物会积聚在反应室的内壁上。这里的危险是这些残留物与内壁分离并污染随后的循环过程。因此，在开始新的沉积工艺之前，应使用等离子清洁器清洁 CVD 室，以保持产品的可接受产量。传统的清洁剂是含氟气体，例如 PFC 和 SF6，它们可用作等离子体产生气体，以从 CVD 室的内壁去除 Sio2 或 Si3N4。
以PTFE微孔板膜为底膜，pfa附着力促进剂用PTFE微孔板膜对PTFE微孔板膜进行涂覆或浸渍，使PFSI匀称地填充到微孔板结构中，形成复合膜，膜强度和稳定性较高，阻隔成效更为显著。 近些年来，伴随着PTFE微孔板膜制膜技术和专用设备逐渐成熟平稳和健全完善，PTFE微孔板薄膜的成本费用减少，此外也开拓了PTFE等离子化制作加工彻底解决技术水平。
PFM的主要功能是:有效控制进入等离子体的杂质;有效去除辐射到材料表面的热功率;在异常停机时保护其他部件不受等离子体轰击的损坏。同时，pfa附着力面对等离子体材料应符合反应堆运行寿命、可靠性和维护要求。因此，等离子体材料的一般要求是耐高温、低溅射、低氢(氚)保持性和与结构材料的相容性。碳基材料和钨是极具发展前景的材料FM的候选材料。对于PFM，必须解决两个问题。
pfa附着力
