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所以对PHA进行必要的修饰是必要的。但是由于PHA分子中存在大量的惰性基团,云南低温等离子处理机哪里找缺乏必要的活性位点,且其分子量大,化学修饰困难。对P3/4HB膜进行等离子体改性前,其静电接触角为122°,在高疏水性条件下,用氧等离子体处理后,静电接触角显著降低,达到78°,具有中等的亲水性。

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