不同等离子体产生的自偏压不一样，微波印制电路板孔铜附着力超声等离子体的自偏压为 0V左右，射频等离子体的自偏压为250V左右，微波等离子体的自偏压很低，只有几十伏，而且三种等离子体的机制不同。 超声等离子体发生的反应为物理反应，射频等离子体发生的反应既有物理反应又有化学反应，微波等离子体发生的反应为化学反应。超声等离子体清洗对被清洁表面产生的影响很大，因而实际半导体生产应用中大多采用射频等离子体清洗和微波等离子体清洗。
超声波等离子体产生的反应是物理反应，孔铜附着力高频等离子体产生的反应既是物理反应又是化学反应，微波等离子体产生的反应是化学反应。射频等离子清洗和微波等离子清洗主要用于现实世界的半导体制造应用，因为超声波等离子清洗对待清洗表面的影响最大。超声波等离子是表面脱胶、毛刺研磨和其他处理的理想选择。典型的等离子物理清洗工艺是在反应室中加入氩气作为辅助处理的等离子清洗。氩气本身是一种惰性气体。
等离子体一般产生于高压或高温气体中。当等离子清洗设备中的等离子体中的粒子能量达到一定程度时，铜附着力就会发光。此时，电压或温度一般较高。也可以说等离子体是在真空中产生的，被激发的等离子体可以是直流、射频、微波等。要确定它是否是等离子体辉光，取决于辉光的特定环境!在这些情况下，激发的结果是等离子体发光。专注于等离子技术的研发与制造，如果您想对设备有更详细的了解或者对设备的使用有疑问，请点击在线客服，等待您的来电!。
利用等离子体对材料表面进行清洗...
