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非晶碳化硅、热气相沉积和熔融涂层技术制备的0薄膜、氢化非晶碳化硅6-SiC:反应直流磁控溅射和等离子体增强化学气相沉积薄膜制备的H薄膜、硅掺杂金刚石线等离子体。它就像在清洁器中通过等离子体增强化学气相沉积制备的碳膜。这些薄膜的制备通常需要使用更高的沉积温度或更高的后处理温度。例如,亲水性强吸水性好在a-SiC和O的热沉积沉积中,薄膜的沉积温度高达800°C。熔覆技术制造a-SiC、O,薄膜烧结温度高达1300℃。

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有机EL也称为有机EL激光显示器或有机发光半导体,亲水性强吸水性好由于其图像质量特别是在亮度和对比度方面非常出色,因此被广泛用于彩色显示器。 ..在过去的十年中,OLED 研究受到了极大的关注,并对未来的图像显示技术产生了不可估量的影响。 OLED器件的性能与使用锡掺杂氧化铟(ITO)作为OLED阳极的空穴注入工艺密切相关。

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等离子处理有以下优点:取得满意的剖面,掺杂态聚苯胺的亲水性强弱钻孔小,选对外表和电路的损伤小,清洁、经济、安全。择比大,刻蚀均匀性好重复性高。处理进程中不会引进污染,洁净度高。

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