1、表面活化能的概念（肺部人工合成的表面活化剂） 4) 暴露在氧气和水环境中半导体晶片会形成自然氧化层。这种氧化膜不仅会干扰半导体制造中的许多步骤，表面活化能的概念而且它还含有某些金属杂质，这些杂质会在某些条件下移动到晶圆上并导致电气缺陷。该氧化膜的去除通常通过浸泡在稀氢氟酸中来完成。等离子表面处理机在半导体晶圆清洗工艺中的应用具有工艺简单、操作方...
2、疏水性亲水性判断（疏水性亲水性人工晶体）丙烯腈疏水性亲水性 等离子体表面清洗设备的应用，疏水性亲水性判断使材料暴露在非聚合气体等离子体中，材料表面受到等离子体轰击，引起材料表面结构的诸多变化，实现材料的活化改性功能。等离子体表面清洗机用于材料表面改性的功能层极薄（几到几百纳米），不会影响材料整体宏观性能，属于无损工艺。等离子体表面改性还可以利用等离子体聚合或...
3、等离子清洗机提高人工石墨亲水性 提升石墨烯粗糙度 等离子体中的电子和离子通过碰撞和电荷交换作用，使得材料表面的电荷分布发生变化，从而影响材料的性质和功能。金徕等离子处理可以改变材料表面的化学性质和物理性质，如表面能、亲水性、耐磨性等，从而提高材料的性能和功能...
