等离子处理和等离子清洗技术的应用为塑料材料、金属材料、铝或有机玻璃的后涂工艺提供了良好的先决条件。干式大气等离子清洗技术可用于清洗后立即进行后期处理。该应用程序可确保整个生产过程的清洁并降低成本。由于低温等离子体能量高，光伏刻蚀工艺亲水性可以有条件地分解原料表面的有机化学成分和有机成分。超精细清洁还可以去除敏感表面上的有害物质。通过这种方式，为后续的涂层工艺准备了良好的先决条件。
中国内地PCB生产企业近1500家，光伏刻蚀工艺亲水性印制电路板企业相对集中，主要分布在珠三角地区、长三角地区和环渤海地区。中国PCB化工企业起步较晚，技术积累和研发能力较弱，产品主要集中在中低端市场。而价值相对较高的电镀工艺和PCB表面处理所用化学品仍被国外企业垄断。
从全球市场占有率来看，半导体工艺亲水性与疏水性单晶圆清洗设备从2008年开始就跑赢自动化清洗设备，成为最重要的清洗设备，而今年正是行业引入45nm节点的时候。据 ITRS 称，2007-2008 年是 45nm 工艺节点量产的开始。松下、英特尔、IBM、三星等此时开始量产45nm。 2008年底，中芯国际获得IBM授权量产45nm工艺，成为中国第一家转向45nm的半导体公司。
低温等离子体处理器的清洗工艺可以不考虑处理对象而处理不同的基材。金属、半导体、氧化物半导体、氧化物或聚合物材料（例如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亚胺胺类、聚酯、环氧树脂等聚合物），工艺亲水性因此特别适用于不耐高温、不耐溶剂的基材，此外，还可以对材料的整体、局部或复杂结构进行选择性清洗，清洗去污后还可以改变材料本身的表面特性，如增加表面...
