该方法工艺简单，六方氮化硼表面改性的方法对原材料适应性强，但能耗高，限制了其大规模推广。20世纪60年代，美国Ion Arc公司采用直流电弧等离子体一步热解氧化锆砂制备氧化锆。20世纪70年代末，国内以硼砂和尿素为原料，在直流电弧等离子体中制备了高纯六方氮化硼粉。此外，还可以通过等离子体技术生产二氧化钛。。等离子体加工技术在电子工业中的应用主要有:电子元器件加工前处理、PCB清洗、静电去除、LED支架、晶圆、IC的清洗或粘接等。
1.1碳纤维的结构碳纤维具有石墨的基本结构，六方氮化硼表面改性的方法但不是理想的石墨晶格结构，而是所谓的无序石墨结构（见图1-1）。多晶结构的单位是六方碳原子的层晶格，层晶格构成层平面。层平面内的碳原子以强共价键连接，键长为0.1421nm；层平面之间由弱范德华力连接，层间距在0.3360～0.3440nm之间；层与层之间没有规则的碳原子固定位置，所以层的边缘是不均匀的。
碳原子在层与层之间没有规则的位置，硼表面改性所以层的边缘是不均匀的。与石墨结构相比，碳纤维的C原子层具有不规则的平移和旋转，但由六方网状共价键键合的C原子层基本平行于纤维轴线排列，导致碳纤维的轴向拉伸模量较高。在混沌石墨结构中，石墨片层是最基本的结构单元，片层之间相互交叉。
使用等离子沉积的硅化合物 SiH4 + N2O（或 Si (OC2H4) + O2）创建 SiOxHy。气压为1-5 Torr（1Torr≈133Pa），氮化硼表面改性输出为13.5MHz。 SiH4+SiH3+N2用于氮化硅沉积，温度300℃，沉积速率180埃/分钟。无定形碳化硅膜由硅烷和含碳...
