超声波清洗对被清洗表面的影响最大，划圈法侧附着力因此在实际半导体生产应用中，经常使用射频和微波清洗方法。超声波清洗对去除表面胶水和毛刺的效果最好。典型的物理化学清洗方法是在反应室中加入氩气作为辅助处理。因为氩本身是惰性气体，它不与表面发生反应，而是通过离子轰击清洁表面。典型的等离子体化学清洗技术是氧等离子体清洗。
铟锡氧化物(ITO)导电膜由于其良好的导电性和在可见光范围内的高透过率，划圈法侧附着力具体方法在光电领域得到了广泛的应用，在有机电致发光领域经常作为OLED的正极材料。在OLED中，ITO可以直接与有机膜接触，因此ITO的表面特性，如表面有机污染物的含量、表面电阻、表面粗糙度和工作功能等，对整个器件的性能起着重要的作用。改变ITO的表面特性会影响OLED的性能。目前处理ITO的方法主要分为物理法和化学法。
复合材料粘合面等离子清洗技术等离子处理技术是等离子体中的高能粒子与材料表面碰撞，划圈法侧附着力具体方法使表面材料降解，增加表面粗糙度。等离子中存在其他活性粒子时，通过与氧等离子等表面物质反应来活化表面的方法。等离子处理技术可应用于纺织品、塑料、橡胶和复合材料的表面处理。等离子体中粒子的组成取决于气体的类型，但所有这些粒子都是由电子、正离子和负离子、自由基以及非电离分子和原子组成的。
大家都知道真空等离子清洗机处理工件的环境是在真空进行，划圈法侧附着力不污染环境，保证清洗表面不被二次污染，泄压时可以选择氮气泄压，避免空气泄压对工件的影响，真空
