就反应机理来看，表面活性剂活化钠等离子体清洗通常包括以下过程∶无机气体被激发为等离子态;气相物质被吸附在固体表面﹔被吸附基团与固体表面分子反应生成产物分子;产物分子解析形成气相﹔反应残余物脱离表面。 等离子表面处理技术的特点是不分处理对象的基材类型，均可进行处理，对金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料，如聚丙烯、聚腊、聚酰亚胺、聚氯乙烷、环氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地处理，并可实现整体和局部以及复杂结构的清洗。
等离子体的能量气体分子被分解或分解成具有化学活性的成分，羧基磁珠活化加表面活性剂这些成分与固体碱发生反应，形成挥发性物质，由真空泵排出。一般必须腐蚀四种材料:硅(混合硅或非混合硅)、介质(如SiO2或SiN)、金属(通常为铝、铜)、光刻胶。每种材料的化学性质都不同。等离子体表面处理是一种各向异性腐蚀技术，可以保证腐蚀图案、特殊材料的选择和均匀性。在等离子体腐蚀中，以等离子体为基础的物理腐蚀和以活性基团为基础的化学腐蚀同时发生。。
等离子清洗还具有以下特点：1.使用者可远离有害溶剂对人体的危害；易于采用数字控制技术，羧基磁珠活化加表面活性剂自动化程度高；2.整个工艺流程效率极高；3.具有高精度控制装置，时间控制精度很高；4、且正确的等离子清洗不会在表面产生损伤层，表面质量有保证；5.由于是在真空中进行，不污染环境，保证清洗面不受二次污染。。20世纪20年代以来，特别是50年代以来，等离子体物理已经发展成为物理学中一个非常活跃的分支。
羧基和羟基等表面提高了材料的亲水性。 PTFE材料的成分因等离子发生器的表面处理和表面处理而异。处理后形...
