氧等离子体清洗机的原理是氧自由基与基材表面的有机污染物发生反应，聚乙烯吡啶亲水性生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，再通过真空泵将这些挥发性物质吸走。采用真空蒸发法在硅片表面沉积了一层金岛膜。岛状膜具有良好的表面增强效果，对吡啶分子的增强因子为10。氧离子体清洗去除金岛膜表面污染，光谱测试表明清洗前后金岛膜表面增强特性变化不明显。
氧低温等离子体设备中等离子体清洗的原理是氧自由基与基体表面的有机污染物发生反应，三联吡啶亲水性生成二氧化碳、一氧化碳、水等挥发性物质，再通过真空泵将这些挥发性物质吸走。采用真空蒸发法在硅片表面沉积了一层金岛膜。岛状膜具有良好的表面增强效果，对吡啶分子的增强因子为10。氧离子体清洗去除金岛膜表面污染，光谱测试表明清洗前后金岛膜表面增强特性变化不明显。
诸多研究认为，三联吡啶亲水性碳吸附材料的表面化学改性能产生含氧官能团(如羧基、羟基、酸酐、醌基、羰基、醇基等)和含氮官能团(胺基、酰胺基、酰亚胺基、吡咯基、吡啶基)，这些基团对活性炭/活性碳纤维的吸附性能产生重要影响，不仅能解决湿环境下吸附剂吸附能力下降的问题，还能提高对特定污染物的吸附能力或降低脱附要求。碳材料的化学改性方法主要有氧化法、还原法、酸碱法和等离子体处理法等。
等离子体表面处理和电晕机表面处理都是高频高压辉光放电，三联吡啶亲水性用等离子体对材料表面进行处理。b.等离子表面处理、电晕机表面处理：可提高材料表面的附着力，有利于粘接、喷涂、印刷工艺。C.都是在线加工、流水线生...
