二、等离子刻蚀在等离子体蚀刻过程中，大庆大型真空清洗机定制被蚀刻的材料在工艺气体的作用下变成气相（例如，当硅用氟气蚀刻时，如下所示）。用真空泵将处理气体和基体材料抽出，外表面依次覆盖新鲜处理气体。不想要的蚀刻部分要用数据覆盖（例如半导体工业用铬作为覆盖数据）。等离子体方法也被用来蚀刻塑料的表面。氧气可以用来对充填混合物进行灰化，并得到分布分析。聚甲醛、聚苯乙烯和聚四氟乙烯等蚀刻方法是塑料印刷和粘接的重要预处理技术。
这种处理方法一般主要用于少量昂贵样品的理论研究。后期处理室逐渐发展为流动处理，真空清洗机真空度不足即处理后的样品通过给料泵进入处理室，再进行PEF等离子体脉冲处理，然后流出处理室；在处理过程中，处理后的样品进出处理室，PEF等离子体处理一步到位。该方法主要用于PEF真空等离子体机等离子体的工业应用，也是本研究采用的主要处理方法。
目前所采用的大部分技术主要是用于低温真空等离子体设备的技术，大庆大型真空清洗机定制低温等离子体工艺处理简单，对环境无污染，清洗效率显著，特别是对于通孔结构非常有效。低温等离子体清洗是指极活化的低温等离子体借助电磁场进行特殊置换，与孔内钻井污物形成气固两相流化学变化，同时将形成的废气和一部分未反应颗粒通过抽吸泵排出。低温等离子体在清洗HDI电路板通孔时通常可分为三步。
等离子体清洗机在光电行业的应用如下：配发银胶前：基板上的污染物会导致银胶呈球形，真空清洗机真空度不足不利于贴片，使用时容易对芯片造成损伤。等离子清洗可大大提高工件表面粗糙度和亲水性，有利于平铺粘贴，同时可大大节省银胶用量，降低成本。引线键合前：芯片贴在基板上。高温固化后，基体上的污染物可能含有颗粒和氧化物。由于物理和化学反应，这些颗粒和氧化物使引线、芯片和基板之间的焊接不完整或结...
