20年来一直致力于真空等离子机的开发和生产，平板清洗线如果您想了解更多的产品细节或者在设备的使用中有疑问，请点击在线客服，等待您的来电!。真空等离子体机在半导体领域的应用解决了三个技术问题:它广泛应用于半导体、生物、医药、光学、平板显示等行业。它利用一些活性组分对样品表面进行处理，实现清洗、清洗、改性等功能。
设备尺寸1105w *14880D*1842Hmm(带信号高度2158mm)水平板8层电极板403w * 450dmmm2路工艺气0-300ml/min真空测量日本ULVAV真空量规人机界面触摸屏自主研发电极至距离48mmsignal light3 Ribbon报警真空泵90m3/h双极油泵系统电源、AMP、机械占地面积:设备host1805 (W) x1988 (D) x1842 (H) mm射频(rf)电源射频(rf)频率13.56 MHZRf power0WRf电源适配器全自动匹配，平板清洗线领先的空气电容技术设备前提电源:AC380V,50/60Hz，三相无线7.5 kvacv压缩空气要求无水无油CDA60~ 90psig抽搐系统≥2立方米/分钟，中央排气处理管道可系统环境要求30°(室温最佳)工艺气体要求15~20paog99.996%以上。
当日食发生时，平板清洗机器在太阳周围可以看到一个明亮的光晕(日冕)以等离子体的形式存在。随着能量输入的增加，物质的状态发生了变化，从固体变为液体，再变为气体。如果放电给气体增加了能量，它就变成等离子体。等离子体轰击可以用来腐蚀、激活和清洁物体的表面。等离子体表面处理系统已广泛应用于液晶、LED、液晶、PCB、SMT、BGA、导架、平板显示的清洗和蚀刻，以及液晶显示器件的加工。
