等离子发生器广泛应用于光电、半导体材料、生物医药、复合材料、平板显示、新能源和一般工业等诸多领域。一、等离子发生器电子行业 A、填充：提高灌注附着力 填充是指通过浇注树脂来保护电子元件。通过在填充前激活等离子体，平板除胶机器提高了密封性，降低了漏电流，获得了良好的键合性能。填充物提供绝缘以抵抗湿度、热/冷、物理和电应力的影响。它还具有阻燃、减震、散热功能。 B.键合板清洁：提高引线键合的有效性。 C。
X. 等离子发生器平板显示器 A. ITO 面板清洁激活； B.光刻胶去除；C.粘合点清洁 (COG)。等离子发生器适用范围高频等离子发生器（点击查看详情）它在工业上得到了广泛的应用，平板除胶特别是在等离子化工、冶金和光学材料精炼方面。等离子发生器制备超导材料，如钒-硅（或钒-锗）、铌-铝（或铌-锗）氯化物蒸气，用高频氢等离子体还原成超导材料。您也可以。
等离子蚀刻工艺从相对简单的平板二极管技术开始，平板除胶设备发展成为价值数百万美元的组合腔室，配备多频发生器、静电吸盘、外壁温度控制器和薄膜特定设计。有多种过程控制传感器可供选择。可以蚀刻的电介质是二氧化硅和氮化硅。这两种电介质的化学键能非常高，通常需要使用由碳氟化合物气体（CF4、C4F8 等）产生的高反应性氟等离子体对它们进行蚀刻。
等离子蚀刻工艺从相对简单的平板二极管技术开始，平板除胶发展成为价值数百万美元的组合腔室，配备多频发生器、静电吸盘、外壁温度控制器和薄膜特定设计。有多种过程控制传感器可供选择。可以蚀刻的电介质是二氧化硅和氮化硅。这两种电介质的化学键能非常高，通常需要使用由碳氟化合物气体（CF4、C4F8 等）产生的高反应性氟等离子体对它们进行蚀刻。
平板除胶设备
