Marafee等研究了电晕放电等离子体中，浸涂工艺影响附着力的因素带有OH基团的金属氧化物催化剂对甲烷氧化偶联反应的影响，结果表明：带有OH基团的催化剂可增强气体放电作用而导致甲烷转化率和C2烃收率明显提高。研究表明：催化剂的碱性有利于C2烃生成。（3）催化剂对反应物有活化作用。催化剂通过吸附作用活化反应物，促使反应物转化。
为了避免污物对芯片处理性能的严重影响和缺陷，浸涂工艺影响附着力的因素半导体单晶硅片在制造过程中需要经过多次外表清洗步骤，而等离子体清洗机是单晶硅片光刻技术的很理想清洗设备。单晶硅片清洗一般分为湿法清洗和干法清洗。等离子清洗机属于干式清洗，是单晶硅片清洗的主要方式之一。等离子清洗机主要用于去除单晶硅片外表肉眼看不见的外表污物。对于单晶硅片这种高科技产品，对颗粒的要求极高，一旦有超标颗粒的存在都可能导致单晶硅片不可挽回的缺陷。
一般来说，影响附着力的因素等离子体可以通过多种机制作用并清洁表面，包括蚀刻、活化、沉积、交联和等离子体表面接枝。等离子表面处理设备的优点：作用于材料表面：等离子等离子处理只影响材料表面附近，不影响材料的整体性能。与许多湿式洗涤器工艺不同，等离子等离子二次清洁不会留下有机残留物。在合适的条件下，等离子清洗可以完全去除污染物，从而产生一个原子清洁表面。
它振动并对高反...
