例如，静电喷涂附着力等级正负电荷的分离会产生静电场，静电场的库仑力是恢复力，产生朗缪尔波;磁场线的弯曲，其张力是恢复力，产生阿尔文波;等离子体中的各种梯度，如密度梯度和温度梯度，可以引起漂移运动，其中可以与波模相结合，造成漂移波。等离子体波大致可分为冷等离子体波和热等离子体波。当粒子的热速度远小于波速，磁化等离子体的回旋半径远小于波长时，即为冷等离子体，用磁流体力学方法研究了其波动现象。
从相对简单的平板二极管技术开始，影响静电喷涂附着力的因素等离子体刻蚀已经发展成为一种價值数百万美元的结合腔。它配有多频发生器、静电吸盘、外壁温控制器和专门为特定薄膜设计的各种过程控制传感器。 SiO2和SiN是SiO2和SiN。二者的化学键可以很高，一般需要CF4、C4F8等，产生高活性氟等离子体能被刻蚀。上述气体产生的等离子体化学性质极其复杂，往往会在基底表面产生聚合物沉积。
平行场的等速度运动，静电喷涂附着力等级垂直场的等速度运动，是绕磁力线的圆运动（拉莫尔圆），也就是带电粒子的回旋运动。若除了磁场外，还有其它外力F，则粒子除沿磁场的垂直运动外，还作回旋和漂移两种运动。漂移运动是指拉莫尔圆的圆心(导向中心)与磁场垂直移动，可由静电或重力引起。在磁场不均匀的情况下，漂移还可由磁场梯度和磁场的曲率等引起。静电引起的正、负电荷漂移相同，因此不会产生电流。与不产生静电的正、负电荷的漂移相反，会产生电流。
等离子处理通常会产生有机杂质，静电喷涂附着力等级并以各种形式存在。因此，为了避免许多问题，建议可以在制造过程开始时进行表面清洁过程。购买等离子设备时，首先考虑成本问题，优先考虑常压等离子设备。常压等离子设备并非适用于所有产品，所以在购买设备时，是否适合这种等离子设备取决于设备的类型和产品的材质。真空等离子设备是等离子设备中比较常见和常用的设备，其产品性能达到一流水平。真空
