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根据要蚀刻的材料类型、所用气体的性质和所需的蚀刻类型,附着力怎么写出来等离子体蚀刻有多种类型。操作温度和压力对等离子体刻蚀也有重要影响。工作温度和压力的微小变化会显著改变电子的碰撞频率。RIE(反应离子蚀刻)使用物理和化学机制来实现单向、高级的表面蚀刻。由于RIE过程结合了物理和化学相互作用,它比单独的等离子体蚀刻要快。高能离子碰撞将电子从等离子体中剥离出来,并允许使用带正电的等离子体进行表面处理。。

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