科学家们试图通过掺杂金属或非金属元素来优化G-C3N4的性能。通过在G-C3N4的骨架中引入新元素，掺杂氮会提高亲水性吗可以改变材料的电子结构，调整G-C3N4的光学等物理性质。等离子体光催化材料，即基于稀有金属纳米颗粒表面等离子体共振效应的金属纳米颗粒与半导体材料时的稀有金属纳米颗粒(Au和Ag、尺寸为数十到数百纳米)扩大了半导体光催化剂中可见光吸收的范围，同时增强了光吸收能力。。
一方面，高亲水性大分子物质增加沟道区的浓度，防止穿通注入（NAPTimplant），在先进工艺中使用Pocket植入可以减少耗尽区的扩大。另一方面，可以通过降低源区和漏区的PN结浓度来减小耗尽区的宽度。前者可以抑制穿通，但不可能不断提高浓度，毕竟影响通道的开启电压。在后一种情况下，轻掺杂漏极（LDD）被用作N + _Source / Drain结从N + / PW的原始PN结到NLDD- / P阱的过渡区。
这些材料可以形成二维电子气运输在二维方向上,这使得极高的流动性与低阈值电压无掺杂状态,设备不需要逆地区运作,并且不需要使用一个深井限制泄漏和电迁移。这些优点将为芯片加工节省大量的等离子体掺杂工艺，高亲水性大分子物质大大节约成本。当然，困难在于找到合适的介电层和金属电极;可以预见的是，一旦这些材料被用于芯片制造，如何提高接触电阻将成为一个新的问题。目前，这类材料还不普及。这种二维材料反应性强，刚性强，易断裂。
通过其处理，高亲水性大分子物质可以提高材料表面的润湿能力，使各种材料可以进行涂覆等操作，增强附着力、结合力，同时去除有机污染物、油污或润滑脂。等离子体清洗机就是利用这些活性组分的特性对样品表面进行处理，从而达到清洗的目的。等离子体可用于清洗、蚀刻、活化和表面制备等。等离子体与固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也称为物质的第四种状态。给气体施加足够的能量使其游离成等离子体状态。
