1、基底亲水性处理（旋涂中如何改善基底亲水性） 等离子体冲击波去除微纳粒子的效果非常明显，旋涂中如何改善基底亲水性直径在0.5μm以上的微粒去除比较彻底，而小于此粒径的微粒基本去除原有数量的50%左右。等离子体辐射光谱由连续光谱与叠加其上的线状谱线组成，光谱范围很宽，从紫外一直扩展到近红外，但主要集中在可见光范围。宽谱光辐射有助于增强基底表...
2、plasma cleaning原理（旋涂薄膜之前用plasma的原因） PC或PLC控制使加工效果包括较强的再现性和参数控制的准确性。这种类型的设备可以单独使用，plasma cleaning原理也可以通过自动门集成成一条自动生产线。真空等离子清洗机顾名思义是一种兼具经济和环境升值空间的表面处理技术，值得中国市场相关厂家关注。。DBD等离子体由稀有气体形成的等离子体发生...
